UPW-HiDB超纯水抛光除硼系统

时间： 2025-02-07

应用对象：集成电路与硅片产业对硼要求极高的超纯水处理系统

关键技术：除硼树脂、抛光树脂、除硼阴床

技术优势：

1）硼选择树脂含有多羟基官能团，对于硼酸具有高选择性;

2）双层床的设计及后置的TOC-UV解决除硼树脂TOC溶出的问题;

3）产水B浓度 < 10 ppt，TOC < 2 ppb。